Substrat de napolitană epitaxială de mare putere GaAs, napolitană de arseniură de galiu, lungime de undă laser de 905 nm pentru tratament medical cu laser
Caracteristicile cheie ale foii epitaxiale cu laser GaAs includ:
1. Mobilitate ridicată a electronilor: Arseniura de galiu are o mobilitate ridicată a electronilor, ceea ce face ca napolitanele epitaxiale laser GaAs să aibă aplicații bune în dispozitivele de înaltă frecvență și dispozitivele electronice de mare viteză.
2. Luminescența cu tranziție directă a benzii interzise: Ca material cu tranziție directă a benzii interzise, arsenura de galiu poate converti eficient energia electrică în energie luminoasă în dispozitivele optoelectronice, fiind ideală pentru fabricarea laserelor.
3. Lungime de undă: Laserele GaAs 905 funcționează de obicei la 905 nm, ceea ce le face potrivite pentru multe aplicații, inclusiv biomedicină.
4. Eficiență ridicată: cu o eficiență ridicată a conversiei fotoelectrice, poate converti eficient energia electrică în ieșire laser.
5. Putere mare de ieșire: Poate atinge o putere mare de ieșire și este potrivit pentru scenarii de aplicații care necesită o sursă de lumină puternică.
6. Performanță termică bună: Materialul GaAs are o conductivitate termică bună, contribuind la reducerea temperaturii de funcționare a laserului și la îmbunătățirea stabilității.
7. Reglare largă: Puterea de ieșire poate fi ajustată prin modificarea curentului de acționare pentru a se adapta la diferite cerințe ale aplicației.
Principalele aplicații ale tabletelor epitaxiale cu laser GaAs includ:
1. Comunicație prin fibră optică: Foaia epitaxială laser GaAs poate fi utilizată pentru fabricarea laserelor în comunicațiile prin fibră optică pentru a realiza transmisia semnalului optic de mare viteză și pe distanțe lungi.
2. Aplicații industriale: În domeniul industrial, foile epitaxiale laser de GaAs pot fi utilizate pentru măsurarea distanței cu laser, marcarea cu laser și alte aplicații.
3. VCSEL: Laserul cu emițătoare de suprafață în cavitate verticală (VCSEL) este un domeniu important de aplicație al foii epitaxiale laser GaAs, care este utilizată pe scară largă în comunicațiile optice, stocarea optică și detectarea optică.
4. Câmp infraroșu și punctual: Foaia epitaxială laser GaAs poate fi utilizată și pentru fabricarea laserelor cu infraroșu, a generatoarelor de punctual și a altor dispozitive, jucând un rol important în detectarea în infraroșu, afișarea luminii și alte domenii.
Prepararea foilor epitaxiale laser de GaAs depinde în principal de tehnologia de creștere epitaxială, inclusiv depunerea chimică de vapori metalo-organici (MOCVD), epitaxială cu fascicul molecular (MBE) și alte metode. Aceste tehnici pot controla cu precizie grosimea, compoziția și structura cristalină a stratului epitaxial pentru a obține foi epitaxiale laser de GaAs de înaltă calitate.
XKH oferă personalizări ale foilor epitaxiale de GaAs în diferite structuri și grosimi, acoperind o gamă largă de aplicații în comunicații optice, VCSEL, infraroșu și câmpuri de spot luminos. Produsele XKH sunt fabricate cu echipamente MOCVD avansate pentru a asigura performanțe și fiabilitate ridicate. În ceea ce privește logistica, XKH are o gamă largă de canale de aprovizionare internaționale, care pot gestiona flexibil numărul de comenzi și pot oferi servicii cu valoare adăugată, cum ar fi rafinarea și subdiviziunea. Procesele eficiente de livrare asigură livrarea la timp și îndeplinesc cerințele clienților privind calitatea și timpii de livrare. Clienții pot beneficia de asistență tehnică completă și servicii post-vânzare după sosire pentru a se asigura că produsul este pus în funcțiune fără probleme.
Diagramă detaliată


