Tijă și știft de ridicare din safir industrial, știft din safir de duritate ridicată Al2O3 pentru manipularea plachetelor, sistem radar și procesare semiconductoare - diametru 1,6 mm până la 2 mm
Abstract
Tija și știftul industrial Sapphire sunt proiectate cu precizie și durabilitate pentru aplicații cu solicitare ridicată, cum ar fi manipularea plachetelor, sistemele radar și procesarea semiconductoarelor. Fabricați din monocristal Al2O3 (safir), acești pini oferă o duritate și o rezistență termică remarcabile. Disponibil în diametre cuprinse între 1,6 mm și 2 mm, aceste tije și știfturi de ridicare sunt personalizabile pentru cerințele industriale specializate. Acestea oferă o rezistență excelentă la zgârieturi și o uzură redusă, făcându-le componente esențiale pentru sistemele de înaltă performanță.
Caracteristici
●Duritate și durabilitate ridicate:Cu o duritate Mohs de 9, aceste știfturi și tije sunt rezistente la zgârieturi, asigurând performanțe de lungă durată în aplicații cu uzură ridicată.
●Dimensiuni personalizabile:Disponibil în diametre de la 1,6 mm la 2 mm, cu opțiunea de dimensiuni personalizate pentru a satisface nevoile specifice ale aplicației.
● Rezistenta termica:Punctul de topire ridicat al Sapphire (2040°C) asigură că acești știfturi pot rezista la medii cu temperaturi ridicate fără a se degrada.
●Proprietăți optice excelente:Claritatea optică inerentă a lui Sapphire face ca aceste știfturi de ridicare să fie potrivite pentru utilizarea în sisteme optice și dispozitive de precizie.
● Frecare și uzură reduse:Suprafața netedă a safirului minimizează uzura atât a știftului de ridicare, cât și a echipamentului, reducând costurile de întreținere.
Aplicații
●Manipularea napolitanelor:Folosit în procesarea semiconductoarelor pentru manipularea delicată a plachetelor.
●Sisteme radar:Știfturi de înaltă performanță utilizați în sistemele radar pentru durabilitatea și precizia lor.
●Procesare semiconductoare:Perfect pentru manipularea napolitanelor și a altor componente în procesele de fabricație de semiconductori de înaltă tehnologie.
●Sisteme industriale:Potrivit pentru o varietate de aplicații industriale care necesită durabilitate și precizie ridicate.
Parametrii produsului
| Caracteristica | Caietul de sarcini |
| Material | Un singur cristal Al2O3 (Safir) |
| Duritate | Mohs 9 |
| Gama de diametre | 1,6 mm până la 2 mm |
| Conductivitate termică | 27 W·m^-1·K^-1 |
| Punct de topire | 2040°C |
| Densitate | 3,97 g/cc |
| Aplicații | Manipularea plachetelor, sisteme radar, procesare semiconductoare |
| Personalizare | Disponibil în dimensiuni personalizate |
Întrebări și răspunsuri (întrebări frecvente)
Î1: De ce este safirul un material bun pentru știfturile de ridicare utilizate în manipularea plachetelor?
A1: Safirul este foarterezistent la zgârieturiși are opunct de topire ridicat, făcându-l un material excelent pentru operațiuni delicate, cum ar fimanipularea napolitanelor, unde precizia și durabilitatea sunt cheia.
Î2: Care este avantajul personalizării dimensiunii știfturilor de ridicare din safir?
A2: Dimensiunile personalizate permit ca aceste știfturi de ridicare să fie adaptate pentru a se potrivi aplicațiilor specifice, asigurând performanțe optime într-o varietate de sisteme, inclusivprelucrarea semiconductoarelorşisisteme radar.
Î3: Pot fi utilizați știfturile de ridicare din safir în aplicații la temperaturi înalte?
A3: Da,safirare opunct de topire ridicatde2040°C, ceea ce îl face ideal pentru utilizare în medii cu temperaturi ridicate.
Diagrama detaliată
