8 inch 200 mm Napolitane din carbură de siliciu SiC tip 4H-N Grad de producție 500um grosime

Napolitane din carbură de siliciu SiC de 8 inch și 200 mm Tip 4H-N Grad de producție 500um grosime Imagine prezentată

Scurta descriere:

Shanghai Xinkehui Tech.Co., Ltd oferă cea mai bună selecție și prețuri pentru plachete și substraturi cu carbură de siliciu de înaltă calitate cu diametre de până la 8 inci cu tipuri N și semiizolante.Companiile mici și mari de dispozitive semiconductoare și laboratoarele de cercetare din întreaga lume folosesc și se bazează pe plăcile noastre de carbură de silicon.

Trimiteți-ne un e-mail

Detaliile produsului

Etichete de produs

200 mm 8 inch Specificații substrat SiC

Dimensiune: 8 inch;

Diametru: 200mm±0.2;

Grosime: 500um±25;

Orientarea suprafeței: 4 spre [11-20]±0,5°;

Orientarea crestăturii:[1-100]±1°；

Adâncimea crestăturii: 1±0,25 mm;

Microteava: <1cm2;

Plăci hexagonale: Nu sunt permise;

Rezistivitate: 0,015~0,028Ω;

EPD:<8000cm2;

TED: <6000cm2

BPD: <2000cm2

TSD: <1000cm2

SF: zonă <1%

TTV≤15um；

Warp≤40um；

Arc≤25um；

Zone poli: ≤5%;

Zgârietură: <5 și lungime cumulativă < 1 diametru plachetă;

Așchii/Indentări: Niciuna nu permite D>0,5 mm lățime și adâncime;

Fisuri: Niciuna;

Pata: Niciuna

Marginea plachetei: Teșit;

Finisajul suprafeței: Polish Double Side, Si Face CMP;

Ambalare: casetă cu mai multe napolitane sau container cu o singură napolitană;

Dificultățile actuale în prepararea cristalelor de 200 mm 4H-SiC principal

1) Prepararea de cristale semințe 4H-SiC de 200 mm de înaltă calitate;

2) Neuniformitatea câmpului de temperatură de dimensiuni mari și controlul procesului de nucleare;

3) Eficiența transportului și evoluția componentelor gazoase în sistemele de creștere a cristalelor mari;

4) Crăparea cristalelor și proliferarea defectelor cauzate de creșterea stresului termic de dimensiuni mari.

Pentru a depăși aceste provocări și a obține soluții de napolitană SiC de 200 mm de înaltă calitate sunt propuse:

În ceea ce privește pregătirea cristalelor de semințe de 200 mm, câmpul de temperatură adecvat al fluxului de câmp și ansamblul în expansiune au fost studiate și proiectate pentru a ține cont de calitatea cristalului și de dimensiunea extinsă;Începând cu un cristal de SiC se:d de 150 mm, efectuați o iterație a cristalului semințe pentru a extinde treptat cristalul de SiC până când ajunge la 200 mm;Prin creșterea și procesarea mai multor cristale, optimizați treptat calitatea cristalului în zona de expansiune a cristalului și îmbunătățiți calitatea cristalelor semințe de 200 mm.

În ceea ce privește pregătirea cristalelor conductive de 200 mm și a substratului, cercetările au optimizat designul câmpului de temperatură și al câmpului de curgere pentru creșterea cristalelor de dimensiuni mari, conduce la creșterea cristalelor conductoare de SiC de 200 mm și controlează uniformitatea dopajului.După prelucrarea brută și modelarea cristalului, s-a obținut un lingot 4H-SiC conductiv electric de 8 inchi cu un diametru standard.După tăiere, șlefuire, lustruire, prelucrare pentru a obține napolitane SiC de 200 mm cu o grosime de 525um sau cam asa ceva